NK2000/04管线式果酱胶体磨
高剪切胶体磨结构机理:
高剪切胶体磨由电动机、连接体、磨头等组成,磨盘采用优质不锈钢锻压制成,磨盘表面有三个以上沟槽,分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同,越是向外延伸一级,磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分:硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理,增强刀齿的硬度,起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节,其功效为剪切率大、线速度长、*、处理量大、均质细化效果好。
NK2000/04管线式果酱胶体磨
高剪切胶体磨运行原理:
高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区,通过一种特殊粉碎装置,将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎区,在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下,将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎,精磨区分三级,越向外延伸一级磨片精度越高,齿距越小,线速度越长,物料越磨越细,同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方向速度瞬间发生变化,并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等,在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后,从而产生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的zui小细度可达0.5um。
高剪切胶体磨主要用途:
高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能琪到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。
依肯高剪切胶体磨优势:
NK2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。NK2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
CIK胶体磨转速:
7890/13789RPM 可以通过变频调速通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍,研磨的力度也是他们的3-4倍,这样研磨的细度更小)。
CIK胶体磨结构:
三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区。虽然都是三级结构,但是他们的设计不同理念不同,形状及齿列的结构。
型号 | 标准流量 L/H | 输出转速 rpm | 标准线速度 m/s | 马达功率 KW | 进口尺寸 | 出口尺寸 |
CR2000/4 | 300-1,000 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
CR2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
CR2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
CR2000/20 | 20,000 | 3,000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
CR2000/30 | 40,000 | 1,500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
CR2000/40 | 70,000 | 1,500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。
1 表中上限处理量是指介质为“水"的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
5 本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
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