石墨烯陶瓷分散设备，石墨烯陶瓷胶体磨 ,德国CIK 石墨烯氧化锆陶瓷研磨分散机是过陶瓷胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
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石墨烯（Graphene）是一种二维碳材料，是单层石墨烯、双层石墨烯和少层石墨烯的统称。石墨烯一直被认为是假设性的结构，无法单独稳定存在，直至2004年，英国曼彻斯特大学物理学家安德烈·海姆(Andre Geim)和康斯坦丁·诺沃肖洛夫(Konstantin Novoselov)，成功地在实验中从石墨中分离出石墨烯，而证实它可以单独存在，两人也因“在二维石墨烯材料的开创性实验"，共同获得2010年诺贝尔物理学奖。并且，石墨烯在自然界也有产出，它体现为高能物理状态下的圈量子的粒子态相。
当前石墨烯产业化存在五大难点：石墨烯制备成本较高，良品率有待提升；主流制备方法各有优劣，工艺不稳定，技术有待改善；前期研发投入资金需求量大；下游需求方向尚不十分明确，需求蓝海难估；产业链延伸需要各环节配套，与下游需求对接尚待时日。
德国CIK 石墨烯氧化锆陶瓷研磨分散机的分散效果
影响分散乳化结果的因素有以下几点
1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
CIK 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业特殊要求，新浪轻工公司在CRS2000系列的基础上又开发出CRX2000超高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm，转子的速度可以达到66m/s
陶瓷分散设备的参数
陶瓷胶体磨 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/输出连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
NKCD 2000/4 | 50 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKCD 2000/5 | 200 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKCD 2000/10 | 500 | 4,200 | 23 | 22 | DN50/DN50 |
NKCD 2000/20 | 1500 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKCD 2000/30 | 3000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKCD 2000/50 | 6000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水"的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
石墨烯陶瓷分散设备，石墨烯溶液
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