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超细纳米胶体磨

超细纳米胶体磨

简要描述:超细纳米胶体磨的特点:具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性;该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合;三级胶体磨由定、转子系统所产生的剪切力使得溶质转移速度增加,从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。

产品型号: EDL2000

所属分类:德国胶体磨

更新时间:2024-08-25

详细说明:

 超细纳米胶体磨,高剪切超细胶体磨,超细乳化设备,进口胶体磨对于胶体磨来说zui大的一个目的就是要达到乳化的效果,那么从设备角度来说影响乳化效果的因素有哪些呢?
1、乳化头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好) 
2、乳化头的剪切速率(越大,效果越好) 
3、乳化头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好) 
4、物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)。
5、循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

另外线速度是衡量设备效果的一个重要的指标

线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 
–剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)
                             g 定-转子 间距 (m) 
由上可知,剪切速率取决于以下因素: 
–转子的线速率
–在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=3.14 XD(转子直径)X 转速 RPM/60

 超细纳米胶体磨,主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组分散头(定子+转子)同时工作,乳液经过高剪切后,液滴更细腻,粒径分布更窄,因而生成的混合液稳定性更好。三组分散头均易于更换,适合不同的工艺应用。该系列中不同的型号的机器都有相同的线速度和剪切率,非常易于扩大生产。适宜的温度,压力与粘度参数与DISPERSING一样。也符合CIP/SIP清洁标准,适合食品及医药生产。                               


SH-SINA自主研发生产的超细胶体磨,具有高转速、低能耗、低噪音、高寿命等优势,经过SH-SINA全体研发生产部员工的不懈努力,终于解决了SH-SIAN高剪切胶体磨的提速问题。市场上一般使用的胶体磨由于定转子精度以及机械密封的原因,转速zui高只能达到2910转,而SH-SINA研发的立式分体式胶体磨将转速提高到9000转,从而更好的解决了市场的需求。


 超细胶体磨的特点:具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性;该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合;三级胶体磨由定、转子系统所产生的剪切力使得溶质转移速度增加,从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

EDL2000/4

300-1,000

9,000

23

2.2

DN25

DN15

EDL2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40

DN32

EDL2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50

DN50

EDL2000/20

20,000

3,000

23

37

DN80

DN65

EDL2000/30

40,000

1,500

23

55

DN150

DN125

EDL2000/40

70,000

1,500

23

90

DN150

DN125


 超细纳米胶体磨信息来源于www.shsina。。com


 

 

 



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