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三级纳米湿法胶体磨

三级纳米湿法胶体磨

简要描述:CIK三级纳米湿法胶体磨的特点
①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。
②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

产品型号: NK2000/4

所属分类:化工级胶体磨

更新时间:2024-08-26

详细说明:

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NK2000系列超细研磨设备是CIK(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
价格电议,咨询请: 孙,公司有样机可供客户实验,欢迎广大客户来我司参观指导!
       超细湿法研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
          

     
     第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CIK三级纳米湿法胶体磨的特点

①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

CIK超细湿法胶体磨设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

NK2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

NK2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

NK2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

NK2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

NK2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

NK2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

信息来源于www.ciksh。。com






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