遮瑕膏真空均质乳化机

简要描述：本机组适用于化妆品厂、药厂的膏、霜类产品的生产，尤其对基质粘度大，固料含量比较高的物料乳化配制更显功效。遮瑕膏真空均质乳化机

产品型号： CK-ME

所属分类：真空均质乳化机

更新时间：2024-08-26

详细说明：

遮瑕膏可视作为粉底的一种。不同之处在于遮瑕膏比普通粉底具有更佳的遮盖力，且更贴合肌肤，持久不易脱妆。每个人的脸上都会有这样那样的瑕疵，例如：黑眼圈、色斑、局部性的斑点、痘痘、微血管等等，运用遮瑕膏能*的解决这些问题，还能让你的肤色迅速变得均匀、细致，还能持久地为彩妆加分，令你自信，无惧迎向zui挑剔的眼光，质地越丰润的遮瑕膏，遮瑕效果越出众。

针对这类基质粘度大，且固料含量比较高的膏类产品，新浪轻工（上海）机械设备有限公司引进*科技开发出CK-ME可倾真空均质乳化机遮瑕膏真空均质乳化机，本机组由预处理锅、真空乳化搅拌锅、真空泵、液压系统、电气控制系统，工作平台等部分组成，本机组操作简便、性能稳定、均质性能号、生产率高、清洗方便、结构合理、占地面积少、自动程度化高等特点。

遮瑕膏真空均质乳化机优点：

1、采用上部同轴三重搅拌器，液压升降开盖；

2、搅拌器转速都是变频调控，快速均质搅拌器转速为0-3500r/min，慢速刮壁搅拌器转速为0-63r/min，均质器采用高剪切涡流式乳化搅拌机，慢速刮壁自动紧贴锅底及锅壁。

3、真空吸料，特别对粉体物料利用真空吸入避免粉尘飞扬。

4、整个工序在真空条件下进行，防止物料在高速搅拌后产生气泡，能达到卫生无菌要求；

5、本系统配有CIP信息系统，容器与物料接触部分采用SUS316L材料制造、内表面镜抛光300EMSH；

6、为了提高设备的品质，真空泵及电器控制部分采用德国纳西姆公司产品，变频器采用日本松下电工；

7、本机组*符合GMP要求制造，是国内的膏类生产设备。

技术参数：

型号	有效容量	乳化马达		搅拌马达		外形尺寸				总功率
型号	有效容量	KW	r/min	KW	r/min	长	宽	高	全高	电加热	蒸汽加热
CK-ME-20	20	0.75	0-3000	0.37	0-40	1800	1600	1850	2700	9	3
CK-ME-50	50	2.2	0-3000	0.37	0-40	2700	2000	2015	2700	25	5
CK-ME-100	100	3	0-3000	1.5	0-40	2920	2120	2200	3000	27	9
CK-ME-150	150	3	0-3000	1.5	0-40	3110	2120	2200	3100	27	9
CK-ME-200	200	4	0-3000	1.5	0-40	3150	2200	2200	3100	40	12
CK-ME-350	350	4	0-3000	2.2	0-40	3650	2650	2550	3600	50	16
CK-ME-500	500	5.5	0-3000	2.5	0-40	3970	2800	2700	3950	50	16
CK-ME-1000	1000	11	0-3000	4	0-40	3900	3400	3150	4550	100	30
CK-ME-2000	2000	15	0-3000	7.5	0-40	4850	4300	3600	不带升降	120	50

售前与售后服务:

1.所有由我公司提供的设备，我们将负责安装调试验收至产品合格、设备正常验收，进入生产；

2.亲自上门提供正常的设备操作培训，为需方培训多名工程技术人员，全面掌握生产工艺、设备日常维护、故障及生产管理；

3.所提供设备培训均保修一年(在保修期内除需方因操作不当造成的原因外，所有因设备维修所发生的维修费用均由我公司负责 )

4.我公司在接到维修报告后，无特殊情况，本市zui多十小时，全国zui多四十八小时到达现场；

5.终身维护，在保质期外，如有设备故障，我公司可派人来服务，维修零配件和其他不高于市场价格；

6.我公司将长期为顾客提供的制造工艺、技术革新、市场动态等同类行业的情报信息；

7.购买设备前我们将提供咨询支持，也欢迎前来参观我们的工厂。

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